Samsung hat sein erstes High-NA-Lithographiegerät für extremes Ultraviolett mit hoher numerischer Apertur eingesetzt

Samsung installierte im März dieses Jahres seine erste EUV-Ausrüstung (High-NA) für die Produktion von 1,4-nm-Chips und soll durch Zollsenkungen besser mit Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) konkurrieren können. Wenn Samsung Sub-2-nm-Wafer entwickelt und schließlich in Massenproduktion herstellt, ist der Kauf von High-NA-EUV-Geräten von ASML eine teure Investition, die etwa 400 Millionen US-Dollar pro Gerät kostet. Um jedoch mit TSMC, dem größten Konkurrenten in der Halbleiterindustrie, konkurrieren zu können, muss Samsung dieses Risiko tragen.

Um den Übergang von Samsung reibungslos zu gestalten, plant die südkoreanische Regierung angeblich die Abschaffung der Zölle auf importierte Geräte. Gleichzeitig hat auch Samsung Maßnahmen ergriffen und im März EUV-Geräte mit hoher NA für seine 1,4-nm-Produktionslinie installiert.

Um die Produktion von 2-nm-GAA-Chips zu beschleunigen, wurde zuvor berichtet, dass Samsung mehr Bestellungen für High-NA-EUV-Geräte aufgegeben hat. Obwohl es frühere Gerüchte gab, dass Samsung die Entwicklung des 1,4-nm-Prozesses eingestellt hat, scheint das Unternehmen die Ertragsprobleme des 2-nm-GAA-Knotens überwunden zu haben, und sein Exynos 2600-Chip wird voraussichtlich noch in diesem Jahr in Massenproduktion gehen. Sobald Samsung beweist, dass sein Prozess der neuen Generation die gleiche Leistung wie die 2-nm-Architektur von TSMC erreichen und effizient in Massenproduktion hergestellt werden kann, wird das Unternehmen in die nächste Phase eintreten und mit der Annahme von Kundenaufträgen beginnen.

Um dieses Ziel zu erreichen, berichtet die Korean Economic News, dass die koreanische Regierung die Zölle auf entsprechende Importgüter auf Null senken wird, um die Wettbewerbsfähigkeit zu verbessern. Wenn man bedenkt, dass der Stückpreis von High-NA-EUV-Geräten bis zu 400 Millionen US-Dollar beträgt, ist es auch ohne Zölle bereits sehr teuer. Wenn Samsung hinsichtlich der technischen Stärke mit TSMC konkurrieren möchte, müssen die Gesamtkosten gesenkt werden.

Die EUV-Ausrüstung, die derzeit für die 1,4-nm-Produktion verwendet wird, ist die EXE:5000, die Samsung Anfang des Jahres von ASML gekauft und im Werk Hwaseong installiert hat. Obwohl sich Samsung derzeit auf die 2-Nanometer-Produktionslinie konzentriert, deuten Berichte darauf hin, dass das Unternehmen plant, bis 2027 mit der Massenproduktion von 1,4-Nanometer-Chips in großem Maßstab zu beginnen, um im nächsten Jahr einen Vorsprung vor TSMC zu erreichen.