Laut ausländischen Medienberichten vom 30. September prüft das japanische Ministerium für Wirtschaft, Handel und Industrie die Gewährung von Subventionen in Höhe von bis zu 190 Milliarden Yen (ca. 9,3 Milliarden RMB) für die Hiroshima-Fabrik des Halbleitergiganten Micron Technology.
Micron wird die modernste Produktionsausrüstung „Extreme Ultraviolet (EUV) Lithographieausrüstung“ in seinem Werk in Hiroshima einführen und plant, ab 2026 eine neue Generation von DRAM (Dynamic Random Access Memory) in Massenproduktion herzustellen.
Japan hat außerdem beschlossen, Subventionen in Höhe von bis zu 476 Milliarden Yen für das TSMC-Werk in Kumamoto bereitzustellen, um das Fundament der heimischen Halbleiterindustrie zu stärken.