Der niederländische Hersteller von Halbleiterausrüstung ASML teilte am Dienstag mit, dass Intel beschlossen habe, seine High-End-Lithographieausrüstung zur Herstellung einiger Flaggschiff-Notebook-Chips von Panther Lake zu nutzen. Der Schritt soll dem Chipriesen helfen, den Einsatz dieser fortschrittlichen Ausrüstung in der Praxis effizienter zu meistern.
ASML sagte, dass Intel nach dem Start relevanter Experimente im Jahr 2024 nun damit begonnen habe, seine neue Generation von Lithografiemaschinen für extremes Ultraviolett (EUV) mit hoher numerischer Apertur (High NA) in Betrieb zu nehmen. Die Ausrüstung wird hauptsächlich zum Drucken von Mikroschaltkreismustern auf Mikrochips verwendet, um die Produktion einiger Panther-Lake-Prozessoren zu unterstützen.
In der Halbleiterindustrie gibt es Debatten darüber, wann der Einsatz von High NA-Geräten wirtschaftlich sinnvoll ist. Da Chiphersteller jedoch die Größe der Mikrostruktur auf atomarer Ebene im Inneren des Chips immer weiter reduzieren, werden solche Geräte in der Zukunft zu einem dringenden Bedarf in der Industrie. Es wird berichtet, dass die Kosten für eine einzelne High-NA-Lithographiemaschine bis zu etwa 400 Millionen US-Dollar betragen, was dem Doppelten des Preises einer Standard-EUV-Ausrüstung entspricht, und dass die Einführung in den eigentlichen Produktionsprozess auch mit großen technischen Herausforderungen verbunden ist.
Derzeit verwendet Intel hauptsächlich High NA-Geräte auf bestimmten Schichten des Chips. Dieser Schritt wird Intel und ASML dabei helfen, Testdaten zu sammeln und die Ausrüstung kontinuierlich zu optimieren. Intel lehnte eine Stellungnahme zu den Nachrichten ab.
Es wird davon ausgegangen, dass Intel seinen 18A-Herstellungsprozess zur Herstellung von Panther-Lake-Chips verwendet und zuvor die Standard-EUV-Lithographiemaschine von ASML in der Produktion verwendet hat (der Lithographieprozess nutzt hauptsächlich Licht, um komplexe Muster zu zeichnen, aus denen Chipschaltkreise bestehen). Bereits im Jahr 2024 hat Intel in seinem Forschungs- und Entwicklungszentrum in Hillsboro, Oregon, die ersten High NA-Geräte erhalten. Das Zentrum ist auch die zentrale Basis für Intel, um neue Herstellungsprozesse und -technologien zu entwickeln.