Obwohl es bei EUV-Lithografiemaschinen eliminiert wurde, ist Japan immer noch der weltweit zweitgrößte Anbieter von Lithografiemaschinen. In den letzten Jahren haben auch japanische Unternehmen intensiv an der Entwicklung von Lithografielösungen gearbeitet, die EUV ersetzen können. Sie haben sich für den Weg der NIL-Nanoimprint-Technologie entschieden. Japanische Unternehmen wie Canon und Nikon haben diese Technologie bereits vorgeführt, und nun hat auch die japanische DNP Company (Dainippon Printing Co., Ltd.) die Entwicklung der 10-nm-NIL-Nanoimprint-Technologie angekündigt, mit der Schaltpläne direkt auf das Substrat gedruckt werden können.Diese Technologie kann zur Belichtung von Logikchips im 1,4-nm-Prozess verwendet werden.
In Bezug auf die spezifische Technologie nutzt die 10-nm-Nanoimprint-Technologie von DNP die selbstausrichtende Dual-Strukturierungstechnologie SADP. Eine Belichtung + zwei Muster können einen Chip mit doppelter Präzision erzeugen, der die Anforderungen fortschrittlicher Prozesslogikchips erfüllen kann und offensichtliche Vorteile beim Stromverbrauch bietet. DNP behauptet, dass der Energieverbrauch nur etwa 1/10 des aktuellen Mainstream-Prozesses beträgt.
Das Unternehmen entwickelt seit mehr als 20 Jahren die NIL-Technologie. Die aktuelle Technologie kann die EUV-Lithographie teilweise ersetzen und bietet Chipherstellern eine weitere Option für die hochpräzise Prozessproduktion. Das Unternehmen arbeitet nun mit Hardwarelieferanten zusammen, um eine Technologiebewertung einzuleiten.
DNP Company geht davon aus, die Kundenüberprüfung abzuschließen und Massenproduktions- und Liefersysteme zu etablieren.Die Massenproduktion und Auslieferung wird voraussichtlich im Jahr 2027 beginnen.
