📅 09-09
ASML fördert großformatige High-NA-EUV-Maskenlösung mit dem Ziel der Massenproduktion im Jahr 2033 und einer Effizienzsteigerung um 40 %
Zusammenfassung: ASML arbeitet mit Kunden an der Entwicklung größerer Masken für High-NA-EUV-Lithographiegeräte der näch